L’OEPM acaba de publicar les Directrius d’Examen de totes les modalitats d’invencions (patents, models d’utilitat, topografies de semiconductors) i dissenys. La publicació d’aquest document segueix el mandat legal que incorpora la nova Llei de patents i recull l’evolució normativa que va propiciar aquesta norma, així com les novetats interpretatives del sector que s’han produït en l’àmbit judicial.
Aquest document, tot i que no té caràcter normatiu amb transcendència a tercers, sí que constitueix una eina clau, tant per al ciutadà com per als professionals, a l’hora d’entendre els criteris de treball de l’OEPM en l’examen de les modalitats de protecció afectades. Un instrument que ha d’aportar certesa i consistència a tots els operadors del Sistema de Propietat Industrial a Espanya.
